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集運公司 展會資訊 展會問答 為什麼展會中常有知識產權糾紛

為什麼展會中常有知識產權糾紛

4053 來源:去展網 2020-10-14 16:02:53


企業海外參展常見的知識產權風險集中在專利權(發明、實用新型和外觀設計)風險、商標權風險和版權風險三大方面。

1)專利權風險

參展產品一般融合了最先進的研發成果,因其外型、結構、原理被抄襲而引發的專利侵權糾紛是展會中發生比例最高的。外觀設計專利、普通的實用新型專利,內行人只要看一眼,立刻就能模仿。大部分的展會查抄都因專利而起,並且已經由簡單的外觀設計、實用新型侵權糾紛發展成為複雜的、不易判斷的發明專利侵權糾紛。

2)商標權風險

商標具有地域性,在中國註冊的商標,只在中國受保護,在參展地沒有註冊,則不受保護。如果某企業的商標在中國註冊,但在參展地卻被其他人搶注成功,那麼企業未經授權在參展地使用該商標就屬於侵權行為。如果是被他人許可使用的商標,還需注意商標許可是有期限性的,超期仍使用有可能被訴商標侵權。此外,如果在商品、包裝以及相關廣告宣傳品上出現了在中國屬於通用名稱而在其他國家受法律保護的商標(如“MTV”)時,企業也可能在不知情的情況下被視為商標侵權。

3)版權風險

參展企業散發的參展材料中如果使用了他人作品,或者搭建的展台使用了他人設計方案,都可能導致侵犯他人版權。展會中,因使用背景音樂、他人攝影作品或美術作品等而被追究責任的糾紛也時有發生。企業還應注意展會現場使用的電腦中所承載的軟件是否是正版。

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